紫外輻照設備專利概述

要求（專利）號：CN200710300359.0要求日：2007.12.29
揭露（布告）號：CN101216155揭露（布告）日：2008.07.09
主分類號：F21V13/00(2006.01)I領域分類：
分類號：F21V13/00(2006.01)I；F21V5/04(2006.01)I；F21V9/08(2006.01)I；F21V23/00(2006.01)I；F21V29/02(2006.01)I
要求（專利權）人：中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
地址：130033吉林省長春市東南湖大道16號
國省代碼：吉林；22
創造（規劃）人：尼啟良；劉世界；陳波
專利署理組織：長春菁華專利商標署理事務所
署理人：趙炳仁
★ 摘要
   本創造觸及一種紫外輻照設備，其選用的技能計劃是：榜首光源宣布的包括200nm-400nm波段的光線經聚光鏡會聚，再由準直鏡準直，最終經過榜首濾光片濾掉除200nm-400nm波段的別的光線后照耀到光滑資料；第二光源發射的包括110nm-300nm波段的光線經過第二濾光片濾掉除110nm-300nm波段的別的光線后照耀到真空中放置的光滑資料。本創造能夠模仿大氣和太空環境下太陽光中的紫外線，使光滑資料發作功能改動。這么，就能夠檢查經過大氣中紫外線和真空紫外線輻射后光滑資料的功能參數數值，剖析發生功能改變的因素，并依據剖析成果研發在有紫外線照耀條件下作業的穩定性好的光滑資料。
★ 主權項
    一種紫外輻照設備，其特征在于包括榜首光源，聚光鏡，準直鏡，榜首濾光片；所述的榜首光源宣布的包括200nm-400nm波段的光線經聚光鏡會聚，再由準直鏡準直，最終經過榜首濾光片濾掉除200nm-400nm波段以外的別的光線后出射200nm-400nm波段的紫外光線。


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